عملية النمط الداخلي لثنائي الفينيل متعدد الكلور

يعد إنتاج النمط الداخلي على لوحات الدوائر المطبوعة خطوة حاسمة في التصنيع الإلكتروني ، كما أن دقته وجودته لهما تأثير كبير على استقرار وموثوقية المنتجات الإلكترونية. في إنتاج النمط الداخلي على الألواح ، لا غنى عن عمليات مثل تصفيح الفيلم ، والتعرض ، والتطوير ، والحفر.

الخطوة الأولى هي عملية تصفيح الفيلم. التصفيح هو الخطوة الأولى في إنتاج النمط الداخلي وأيضًا العملية الأساسية في عملية إنتاج لوحات الدوائر المطبوعة بالكامل. الغرض من الطلاء قبل المعالجة هو تكوين طبقة واقية على طبقة تغطية رقائق النحاس للتحكم في النقش والتفاعلات الكيميائية للرقائق النحاسية على اللوح. تتبنى عملية التصفيح قبل المعالجة مبدأ تفاعل البلمرة الضوئي ، والذي يبدأ بعد أن يمتص الفيلم الحساس للضوء الأشعة فوق البنفسجية. باستخدام معدات احترافية ، يتم تغطية الفيلم الحساس للضوء بالكامل بالتساوي على طبقة تغطية رقائق النحاس ، ثم تعرض للأشعة فوق البنفسجية ، يتم بلمرة الفيلم الحساس للضوء على رقائق النحاس تحت إثارة الأشعة فوق البنفسجية لتشكيل طبقة واقية.

التالي هو عملية التعريض. الغرض من التعرض هو نقل نمط الدائرة ونمط المكونات من ملف تصميم لوحة الدوائر المطبوعة إلى فيلم حساس للضوء في لوحة الدائرة ، وتشكيل نمط. أثناء عملية التعرض ، من الضروري استخدام مصابيح الأشعة فوق البنفسجية عالية الطاقة وعدسات الأشعة فوق البنفسجية لنقل نمط خط نقل الضوء من الفيلم الحساس للضوء إلى رقائق النحاس لعمل هذا النمط.

ثم هناك عملية التطوير. يشير التطوير إلى إزالة الطبقة الواقية للفيلم الحساس للضوء على لوحة الدوائر المطبوعة بالكامل من خلال المعالجة الكيميائية ، مما يؤدي إلى تعريض الرقاقة النحاسية حيث يبقى الفيلم الحساس للضوء. يتطلب التطوير استخدام مطور كيميائي لإزالة الطبقة الواقية من الأنماط غير الدائرية كيميائيًا ، وكشف رقائق النحاس وتشكيل أنماط الدوائر.

تعتبر عملية النقش أهم خطوة في إنتاج لوحات الدوائر المطبوعة ، بهدف إزالة الطبقة الواقية وجعل الرقائق النحاسية تغطي نمط الدائرة بالكامل. تتبنى عملية الحفر مبدأ التآكل الكيميائي ، الذي يزيل التآكل غير الخطي من الطبقة الواقية من خلال المحاليل الكيميائية الحمضية أو القلوية ، مما يحقق الفصل بين الخط وغير الخطي. في هذه العملية ، من الضروري التحكم في المحلول الكيميائي للتحكم في معدل التفاعل الكيميائي ودرجة حرارة المحلول الكيميائي ، من أجل ضمان دقة وجودة نمط الدائرة.